硅片生产

• 硅片切割：在硅片切割过程中，需要使用纯水作为切割液的载体，带走切割过程中产生的热量和硅屑，防止硅片表面产生裂纹和损伤，同时保证切割精度。

• 硅片清洗：切割后的硅片表面会残留切割液、硅屑和其他杂质，需要用纯水进行多次清洗，以去除这些杂质，确保硅片表面的洁净度，为后续的电池片生产工艺提供良好的基础。

太阳能电池片生产

• 制绒：通过化学腐蚀的方法在硅片表面形成绒面结构，增加光的吸收效率。在制绒过程中，需要使用纯水来配制制绒液，并对硅片进行清洗，以保证绒面结构的均匀性和质量。

• 扩散：将磷、硼等杂质扩散到硅片内部，形成 P-N 结。扩散过程中使用的扩散源通常需要用纯水进行稀释和清洗，以确保扩散的均匀性和准确性。

• 刻蚀：去除硅片边缘的 PN 结，防止电池片边缘短路。刻蚀过程中需要使用纯水来配制刻蚀液，并对硅片进行清洗，以去除刻蚀过程中产生的杂质和残留物。

• 镀膜：在电池片表面镀上减反射膜、钝化膜等，以提高电池片的光电转换效率。镀膜过程中需要使用纯水来清洗电池片表面，确保镀膜的质量和附着力。

  

光伏组件生产

• 玻璃清洗：光伏组件的前板通常采用玻璃，在玻璃切割、清洗和组装过程中，需要使用纯水来去除玻璃表面的油污、灰尘和其他杂质，确保玻璃表面的洁净度，提高组件的透光率和封装质量。

• EVA 胶膜铺设：EVA 胶膜在铺设前需要用纯水进行清洗，以去除表面的杂质和静电，确保 EVA 胶膜与玻璃和电池片之间的粘结效果。

• 组件封装：在组件封装过程中，需要使用纯水来清洗封装设备和工具，防止杂质和污染物进入组件内部，影响组件的性能和寿命。

光学元件生产

• 光学镜片研磨与清洗：在光学镜片的研磨过程中，需要使用纯水作为研磨液的载体，带走研磨过程中产生的热量和碎屑，保证镜片表面的平整度和光洁度。研磨后的镜片需要用纯水进行多次清洗，以去除表面的研磨液、碎屑和其他杂质，提高镜片的光学性能。

• 液晶显示器（LCD）生产：在 LCD 生产过程中，需要使用纯水来清洗玻璃基板、光刻胶、彩色滤光片等部件，以去除表面的杂质和污染物，确保显示器的显示效果和质量。

• 有机发光二极管（OLED）生产：在 OLED 生产过程中，纯水用于清洗基板、蒸发源等部件，以及配制有机材料溶液。高纯度的纯水可以避免水中杂质对 OLED 器件性能的影响，保证产品的发光效率和稳定性。